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    ALD原子层沉积

    所属分类：

    工艺设备

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    产品描述

    原子层沉积设备

    型号：TLE-AL200S

    参数：

    反应室：不锈钢反应腔室，含样品台，高度＜50mm

    真空系统：含油泵、真空计（全量程规）

    气体流量控制系统：含高精度进口流量计（两路氮气）

    控制系统：含硬件控制器、温度控制器和工艺过程控制软件，一键停止

    操作电脑：预装windows系统和工艺过程控制软件的笔记本电脑一台

    前驱体源输运系统：每路配一套50ml钢瓶、一个气动阀和一个手动阀

    机架：铝型材机架，喷漆面板

    其他：含取样夹具等标准附件

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